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Nano Lett. | Z-scheme異質(zhì)結(jié):堆疊調(diào)控間接-直接帶隙轉(zhuǎn)變

英文原題:First-Principles High-Throughput Inverse Design of Direct Momentum-Matching Band Alignment van der Waals Heterostructures Utilizing Two-Dimensional Indirect Semiconductors

Nano Lett. | Z-scheme異質(zhì)結(jié):堆疊調(diào)控間接-直接帶隙轉(zhuǎn)變
通訊作者:胡偉,楊金龍,中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)

作者:張茜,熊遠(yuǎn)帆,高蘊(yùn)智,陳佳佳,胡偉*,楊金龍*

Nano Lett. | Z-scheme異質(zhì)結(jié):堆疊調(diào)控間接-直接帶隙轉(zhuǎn)變
圖1. 用于光催化應(yīng)用的Z-scheme異質(zhì)結(jié)設(shè)計(jì):利用K空間可視化直觀理解載流子行為,制定通過各種堆疊模式將間接帶隙單層轉(zhuǎn)變?yōu)橹苯訋懂愘|(zhì)結(jié)的策略,最大限度地支持Z-scheme的主導(dǎo)載流子遷移機(jī)制。

文章亮點(diǎn)

二維雙層范德瓦爾斯異質(zhì)結(jié)是一種特殊的材料結(jié)構(gòu),類似于薄膜,由兩種不同的化合物或元素層疊而成。這些材料在光催化領(lǐng)域備受矚目,因?yàn)樗鼈兙哂卸喾N優(yōu)勢(shì):首先,具備強(qiáng)氧化還原能力,這意味著材料具有更強(qiáng)的傾向來接受或釋放電子,能促進(jìn)電子的轉(zhuǎn)移;其次,具有較低的反應(yīng)過電勢(shì),能在較低的能量輸入下進(jìn)行反應(yīng);此外,能夠有效地將光能轉(zhuǎn)化為化學(xué)能,通過分離電荷使得化學(xué)反應(yīng)更高效;最后,具有廣泛的光吸收性質(zhì),能在更廣泛的光譜范圍內(nèi)吸收光線。其中,Z-scheme和傳統(tǒng)的Type-II異質(zhì)結(jié)被廣泛研究,這兩種異質(zhì)結(jié)的能帶排列極為相似,其主要區(qū)別在于主導(dǎo)的載流子機(jī)制不同。在Type-II異質(zhì)結(jié)中,光生載流子會(huì)在帶邊之間轉(zhuǎn)移,其氧化反應(yīng)和還原反應(yīng)分別發(fā)生在異質(zhì)結(jié)的價(jià)帶最高點(diǎn)(VBM)和導(dǎo)帶最低點(diǎn)(CBM)處。因此,Type-II異質(zhì)結(jié)的催化性能顯著受到帶隙大小的影響。相比之下,Z-scheme異質(zhì)結(jié)更期望發(fā)生在給體VBM處光生空穴和受體CBM處光生電子的復(fù)合,相應(yīng)地,析氫反應(yīng)(HER)和析氧反應(yīng)(OER)分別位于更高的還原位和更低的氧化位,這使得Z-scheme異質(zhì)結(jié)能夠突破諸如全水分解需要1.23 eV的帶隙限制,從而更受歡迎。

Nano Lett. | Z-scheme異質(zhì)結(jié):堆疊調(diào)控間接-直接帶隙轉(zhuǎn)變
圖2. Z-scheme和傳統(tǒng)的Type-II異質(zhì)結(jié)構(gòu)中光生電荷載流子的能帶排列和主導(dǎo)的載流子遷移機(jī)制示意圖。

在大多數(shù)關(guān)于搭建光催化異質(zhì)結(jié)的研究中,通常只關(guān)注能帶對(duì)齊這一方面。但僅從這個(gè)角度來看,很難區(qū)分Z-scheme和傳統(tǒng)的Type-II異質(zhì)結(jié)??紤]到在k-空間中,載流子的遷移路徑在一定程度上能夠直觀地反映其相對(duì)的遷移效率,即與同一k點(diǎn)(即動(dòng)量匹配)的躍遷和復(fù)合相比,在不同k之間的遷移由于不可避免地需要聲子的參與,因此效率會(huì)降低?;谶@一考慮,該團(tuán)隊(duì)結(jié)合能帶對(duì)齊和動(dòng)量匹配提出了一種逆向設(shè)計(jì)策略,旨在最大程度地支持Z-scheme異質(zhì)結(jié)所主導(dǎo)的載流子遷移機(jī)制,即通過堆疊兩個(gè)間接帶隙半導(dǎo)體單層來形成直接帶隙異質(zhì)結(jié),從而錨定高通量的篩選條件。

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圖3. 在能量和動(dòng)量空間的角度下,通過堆疊直接/直接半導(dǎo)體(左)和間接/間接半導(dǎo)體(右)以形成直接帶隙異質(zhì)結(jié)的示意圖。

由于是首次驗(yàn)證該策略的可行性,作者采用了第一性原理高通量計(jì)算方法?;诔R姷腗oS2和MoSSe的晶體結(jié)構(gòu),從C2DB數(shù)據(jù)庫(kù)中挑選了73個(gè)具有間接帶隙的單層材料。為縮小搜索空間,考慮了晶格失配低于5%的限制。接著,通過多種堆疊模式進(jìn)行電子調(diào)控,以實(shí)現(xiàn)間接到直接帶隙的轉(zhuǎn)變。在篩選后,最終發(fā)現(xiàn)了26種不同堆疊成分的雙層異質(zhì)結(jié)。

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圖3. 第一性原理高通量計(jì)算工作流。

為證實(shí)篩選出的材料具有成為Z-scheme異質(zhì)結(jié)光催化的潛力,作者挑選了部分材料進(jìn)行基態(tài)能帶計(jì)算和界面處內(nèi)置電場(chǎng)方向的確定,以驗(yàn)證材料具有Z-scheme異質(zhì)結(jié)所要求的能帶排列。另外,還使用KSSOLV中的TDDFT模塊進(jìn)行激發(fā)態(tài)計(jì)算模擬,通過確認(rèn)最低激發(fā)屬于層間激子分布,進(jìn)一步嚴(yán)格地驗(yàn)證了材料的能帶排列是否符合要求。除此之外,還計(jì)算模擬了吸收光譜、光生載流子的遷移以及析氫/析氧反應(yīng)的吉布斯自由能,以全面評(píng)估材料在光催化方面的性能。

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圖4. AA和S-Te-Cl-Br堆疊模式下,HfBrCl/MoSTe異質(zhì)結(jié)的電子結(jié)構(gòu)性質(zhì)。

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圖5. AA和S-Te-Cl-Br堆疊模式下,HfBrCl/MoSTe異質(zhì)結(jié)最低激發(fā)的層間激子分布和載流子遷移模擬。

這項(xiàng)研究工作的最主要?jiǎng)?chuàng)新點(diǎn)在于不同于傳統(tǒng)僅關(guān)注能帶排列,而是結(jié)合動(dòng)量匹配,提出了逆向設(shè)計(jì)方案,從而增大形成Z-scheme的可能性。此外,通過系統(tǒng)性的高通量堆疊計(jì)算,發(fā)現(xiàn)了多種能夠發(fā)生間接到直接帶隙轉(zhuǎn)變的材料。這些被篩選出的材料,無論是否能用于光催化全解水,由于這種轉(zhuǎn)變可能帶來更高效的光電轉(zhuǎn)換性能,對(duì)于光電應(yīng)用也是具有重要意義。該成果以“First-principles high-throughput inverse design of direct momentum-matching band alignment van der Waals heterostructures utilizing two-dimensional indirect semiconductors”為題,發(fā)表在《Nano Letters》期刊上。

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