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?【DFT+實(shí)驗(yàn)】華理Nano-Micro Lett.:ov-Nb2O5/CNS實(shí)現(xiàn)高衰減微波吸收

?【DFT+實(shí)驗(yàn)】華理Nano-Micro Lett.:ov-Nb2O5/CNS實(shí)現(xiàn)高衰減微波吸收
將納米半導(dǎo)體集成到電磁波吸收材料中是一種提高介質(zhì)極化損耗的理想策略,但實(shí)現(xiàn)高衰減微波吸收和深入理解介質(zhì)損耗機(jī)理仍具有挑戰(zhàn)。基于此,華東理工大學(xué)龍東輝教授和牛波博士后等人報道了將富氧空位的超細(xì)Nb2O5半導(dǎo)體封裝在碳納米片中(ov-Nb2O5/CNS),以增強(qiáng)介質(zhì)極化并實(shí)現(xiàn)高衰減。ov-Nb2O5/CNS在2.76 mm處實(shí)現(xiàn)了-80.8 dB(>99.999999%波吸收)的極高衰減性能。此外,ov-Nb2O5/CNS通過固化成吸收波、可加工和散熱的板材,具有良好的應(yīng)用潛力。
?【DFT+實(shí)驗(yàn)】華理Nano-Micro Lett.:ov-Nb2O5/CNS實(shí)現(xiàn)高衰減微波吸收
作者研究了Nb2O5-碳(Nb2O5-C)和NbC-C結(jié)構(gòu)的電荷密度分布,從理論上揭示Nb基納米顆粒誘導(dǎo)的界面極化。電荷在這些異質(zhì)界面上分布不均勻,其中不規(guī)則的黃色和藍(lán)色區(qū)域分別對應(yīng)于電子的聚集和分散。
在Nb2O5-C異質(zhì)界面處,電子離域進(jìn)入Nb2O5,而離域電子則從C和NbC流向Nb2O5-C界面的中間區(qū)域。NbC-C異質(zhì)界面表現(xiàn)出明顯的電荷分離效應(yīng),增強(qiáng)了界面極化能力。具有豐富的Nb2O5納米顆粒的ov-Nb2O5/CNS有大量的NbC-C異質(zhì)界面。因此,ov-Nb2O5/CNS可通過增強(qiáng)界面極化損耗來增強(qiáng)電磁能量耗散。
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此外,Nb2O5納米顆粒中豐富的氧空位缺陷有助于ov-Nb2O5/CNS中優(yōu)異的電偶極子極化。同時,作者利用第一性原理計算估計了Nb2O5完美構(gòu)型和ov-Nb2O5的電荷分布。完美型Nb2O5中的電荷分布相對均勻,而隨著兩個氧空位的存在,電子在空位位點(diǎn)離域并進(jìn)入附近的氧原子,導(dǎo)致電荷分離。隨后,ov-Nb2O5中產(chǎn)生電偶極子,在外加電磁場中誘導(dǎo)形成電子偶極子極化振蕩。
因此,具有豐富氧空位的Nb2O5納米顆??勺鳛殡娮优紭O子極化振蕩單元,有效地提高ov-Nb2O5/CNS的介電損耗能力。
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Ultrafine Vacancy-Rich Nb2O5 Semiconductors Confined in Carbon Nanosheets Boost Dielectric Polarization for High-Attenuation Microwave Absorption. Nano-Micro Lett., 2023, DOI: https://doi.org/10.1007/s40820-023-01151-0.

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