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【MS論文精讀】JPC Letters: g-C2N單層負(fù)載過渡金屬單原子電催化還原硝酸鹽制氨的理論研究

【MS論文精讀】JPC Letters: g-C2N單層負(fù)載過渡金屬單原子電催化還原硝酸鹽制氨的理論研究
研究背景
電催化還原硝酸鹽(NO3RR)合成氨(NH3)可以有效降解硝酸鹽,同時(shí)產(chǎn)生有價(jià)值的產(chǎn)物。近日,中國科學(xué)技術(shù)大學(xué)江俊、張文華等人利用密度泛函理論計(jì)算,研究了一系列負(fù)載在氮化多孔摻雜石墨烯(g-C2N)(TM/g-C2N)上的單一過渡金屬(TM)原子對(duì)硝酸鹽還原為NH3的催化性能。
計(jì)算方法
本文中所有的密度泛函理論計(jì)算都是通過DMol3軟件包進(jìn)行的,并且采用廣義梯度近似(GGA)下的Perdew、Burke和Ernzerhof(PBE)泛函來描述交換關(guān)聯(lián)作用,以及結(jié)合Grimme方案中的經(jīng)驗(yàn)修正來描述電子-電子相互作用,還采用了密度泛函半核贗勢(shì)(DSPP),它包括用單個(gè)有效勢(shì)取代核心電子,并對(duì)核心引入一定程度的相對(duì)論校正。
作者選擇雙數(shù)值正極化(DNP)基組和設(shè)置迭代收斂標(biāo)準(zhǔn)為1.0×10–6 Ha的電子自洽場(SCF)。在計(jì)算中,作者將所有結(jié)構(gòu)中的原子保持松弛,并且將能量、最大應(yīng)力和最大位移收斂標(biāo)準(zhǔn)分別設(shè)定為1.0×10–5 Ha、0.002 Ha??–1和0.005?。此外,作者使用類導(dǎo)體屏蔽模型(COSMO)來模擬H2O溶劑環(huán)境,以及使用Monkhorst–Pack網(wǎng)格方法在倒易空間中對(duì)布里淵區(qū)進(jìn)行3×3×1的k點(diǎn)采樣。

作者在計(jì)算中使用了2×2的g-C2N超胞結(jié)構(gòu),并且為了防止相鄰層之間的相互作用,還設(shè)置了16?的真空層。此外,作者使用5×5×1的k點(diǎn)網(wǎng)格來計(jì)算電子性質(zhì),即態(tài)密度和差分電荷密度。

結(jié)果與討論
【MS論文精讀】JPC Letters: g-C2N單層負(fù)載過渡金屬單原子電催化還原硝酸鹽制氨的理論研究
圖1. TM/g-C2N幾何結(jié)構(gòu)、吸附能和ΔG*NO3與電荷轉(zhuǎn)移關(guān)系
嵌入g-C2N空腔中的TM有三種可能的配置(2N-、3N-、6N-配位),而大多數(shù)TM原子傾向于與兩個(gè)或三個(gè)N原子結(jié)合,而Ag和Au傾向于位于空腔的中心,并且2N-和3N配位的能量差很小,因此,在隨后的反應(yīng)過程中,作者將重點(diǎn)關(guān)注2N配位構(gòu)型,其中g(shù)-C2N通過TM原子的吸附保持平面結(jié)構(gòu),具體如圖1a所示。
從圖1b中可以看出,NO3在Cu(Rh、Pd、Ag、Ir、Pt、Au)/g-C2N上的吸附非常弱,并且Δg*NO3為正。因此,作者在下一步的討論中排除了這些TM/g-C2N。為了探索NO3在TM/g-C2N上的吸附趨勢(shì),作者建立了NO3的吸附能與TM的轉(zhuǎn)移電荷之間的相關(guān)性。
從圖1c中可以看出,ΔG*NO3與TM的轉(zhuǎn)移電荷之間存在線性關(guān)系(R2=0.81),TM原子轉(zhuǎn)移的電荷越多,NO3的吸附就越強(qiáng)。
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圖2. PDS的自由能、火山圖和極限電位
為了簡化計(jì)算并快速篩選出高效催化劑,作者計(jì)算了電勢(shì)限制步驟的能量變化,包括*NO+H++e→ *NOH和*NH2+H++e→ *NH3,具體如圖2a所示。
作者發(fā)現(xiàn)對(duì)于所有TM/g-C2N,*NH3的形成的反應(yīng)自由能是負(fù)的,因此*NOH的形成是電勢(shì)限制步驟。每種TM/g-C2N催化劑的極限電位如圖2c所示。特別是Hf-g/C2N和Zr-g/C2N具有優(yōu)異的NO3RR活性,極限電位分別為?0.27和?0.28 V。
如圖2b所示,在不同的TM-g/C2N催化劑上,NO3RR的極限電勢(shì)和NO3的吸附自由能之間存在火山型關(guān)系,其中Zr/g-C2N和Hf/g-C2N位于曲線的峰值。通過選擇NO3的吸附能作為描述符,作者發(fā)現(xiàn)NO3的適度吸附能力有利于完成整個(gè)反應(yīng)。
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圖3. 反應(yīng)路徑和勢(shì)能面
NO3產(chǎn)生NH3的反應(yīng)途徑如圖3a所示。如圖3b,d所示,在Zr/g-C2N和Hf/g-C2N襯底上從NO3到NH3的每個(gè)基元步驟的吉布斯自由能中,反應(yīng)*NO2+H++e→ *NO2H和*NO+H++e→ *NOH是自由能增加過程,而剩余步驟的吉布斯自由能是下降過程。對(duì)于Zr/g-C2N和Hf/g-C2N,兩個(gè)步驟的吉布斯自由能變化分別為0.16、0.28和0.21、0.27eV。再次證實(shí)Zr/g-C2N和Hf/g-C2N的極限電位為?0.28和?0.27 V。因此,對(duì)Zr/g-C2N和Hf/g-C2N施加?0.28或?0.27伏的額外電壓便會(huì)導(dǎo)致反應(yīng)的自發(fā)發(fā)生。
如圖3a所示,在NO3RR的電還原過程中也可以產(chǎn)生NO、NO2和N2等產(chǎn)物。因此,需要對(duì)NO3RR的選擇性進(jìn)行探索。如圖3c、e所示,作者計(jì)算了基于Zr/g-C2N和Hf/g-C2N襯底的NO3RR與其他副產(chǎn)物的吉布斯自由能變化。對(duì)于Zr/g-C2N和Hf/g-C2N襯底,NO和NO2的解吸能分別為1.99和2.24eV以及2.18和2.39eV。Zr/g-C2N和Hf/g-C2N襯底上NO3還原為N2的極限電勢(shì)為?1.06和?1.09 V,與NO3轉(zhuǎn)化為NH3所需的極限電勢(shì)相比,這兩個(gè)電勢(shì)更負(fù)。這表明,其通過NO3還原為NH3比還原為N2在熱力學(xué)上更有利。
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圖4. PDOS、pCOHP、DFT與SISSO預(yù)測值的比較
為了闡明影響材料催化活性的因素,作者計(jì)算了催化劑的投影態(tài)密度(PDOS)和投影晶體軌道漢密爾頓布居(pCOHP),如圖4a,b所示。作者發(fā)現(xiàn),過渡金屬TM-d軌道和NO3-2p軌道的雜化能級(jí)分裂為成鍵態(tài)和反鍵態(tài),而吸附強(qiáng)度由反鍵態(tài)決定。
具體而言,當(dāng)反鍵態(tài)位于費(fèi)米能級(jí)以下時(shí),NO3的吸附減弱,從而導(dǎo)致催化活性降低。如圖4a,b顯示,當(dāng)NO3吸附在Zr/g-C2N和Hf/g-C2N上時(shí),只有少量反鍵態(tài)存在于費(fèi)米能級(jí)以下,表明NO3在這些催化劑上有很強(qiáng)的吸附作用。如圖4c所示,訓(xùn)練集中預(yù)測的ΔG*NO3-SISSO值與DFT計(jì)算結(jié)果一致,R2高達(dá)0.97,并且低均方根誤差(RMSE)為0.07。
結(jié)論與展望
計(jì)算發(fā)現(xiàn),Zr/g-C2N和Hf/g-C2N是NO3RR的高效電催化劑,極限電勢(shì)(UL)值分別為?0.28和?0.27 V,并且Zr/g-C2N和Hf/g-C2N上的副產(chǎn)物如二氧化物(NO2)、一氧化氮(NO)和氮(N2)的產(chǎn)生受到高能壘的阻礙。TM/g-C2N的NO3RR活性與NO3的吸附自由能密切相關(guān)。

該研究不僅提出了一種在氨合成中提高NO3RR活性的有效電催化劑,而且對(duì)NO3RR機(jī)理有了全面了解。

文獻(xiàn)信息
Shaotong Zhu et.al Theoretical Investigation of Electrocatalytic Reduction of Nitrates to Ammonia on Highly Efficient and Selective g-C2N Monolayer-Supported Single Transition-Metal Atoms JPC Letters 2023
https://pubs.acs.org/doi/full/10.1021/acs.jpclett.3c00617

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