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Appl. Catal. B.：電荷局部?jī)?yōu)化反應(yīng)物在KCu7S4/CuO表面上的吸附，實(shí)現(xiàn)選擇性CO2電還原

調(diào)節(jié)電催化劑的電子結(jié)構(gòu)以優(yōu)化反應(yīng)物在催化劑表面的吸附是提高電催化活性的關(guān)鍵策略。

華中師范大學(xué)原弘教授和歐陽(yáng)述昕教授、昆明理工大學(xué)Jinsong Wang（共同通訊作者）等人報(bào)道了一種新型的KCu₇S4/CuO界面結(jié)構(gòu)，通過(guò)誘導(dǎo)局部電荷區(qū)的形成來(lái)優(yōu)化界面活性中間體的吸附性能，從而促進(jìn)CO₂的電還原。

在-0.9 V中等電位（相對(duì)于可逆氫電極）下，界面催化劑提供了更高的CO₂RR活性和甲酸鹽選擇性，其法拉第效率（FE）為71.0%，電流密度為7.56 mA cm^-2，同時(shí)具有良好的耐久性。

通過(guò)密度泛函理論（DFT）計(jì)算表明，CO₂RR活性和甲酸鹽選擇性的提高是因?yàn)槌跏茧A段CO₂*的吸附增強(qiáng)，關(guān)鍵中間體OCHO*的吸附增強(qiáng)，以及界面電荷重分布引起的局部正電荷區(qū)H*吸附減弱。

Charge localization to optimize reactant adsorption on KCu₇S₄/CuO interfacial structure toward selective CO₂ electroreduction. Appl. Catal. B Environ., 2021, DOI: 10.1016/j.apcatb.2021.120531.

https://doi.org/10.1016/j.apcatb.2021.120531.

原創(chuàng)文章，作者：Gloria，如若轉(zhuǎn)載，請(qǐng)注明來(lái)源華算科技，注明出處：http://www.xiubac.cn/index.php/2023/10/14/169dcf5fd3/

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