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強(qiáng)強(qiáng)聯(lián)合!曾杰/夏川/鄭婷婷等人,最新Nature子刊!

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成果簡(jiǎn)介
乙炔雜質(zhì)的去除對(duì)乙烯下游工業(yè)而言仍然很重要,但也很具有挑戰(zhàn)性。目前,熱催化半加氫工藝需要高溫和過(guò)量的氫氣來(lái)保證乙炔的完全轉(zhuǎn)化,因此在Cu基催化劑上進(jìn)行的乙炔的可再生電力電催化半加氫是一條有吸引力的路線。然而,活性Cu基電催化劑面臨競(jìng)爭(zhēng)性副反應(yīng)的挑戰(zhàn),并且通常需要高過(guò)電位。
基于此,中國(guó)科技大學(xué)曾杰教授、電子科技大學(xué)夏川教授和鄭婷婷特聘研究員(共同通訊作者)等人報(bào)道了一種低配位銅納米點(diǎn)(Cu NDs)催化劑,用于高效的電催化乙炔半加氫(Electrocatalytic acetylene semihydrogenation, EASH)。測(cè)試發(fā)現(xiàn),在純乙炔(C2H2)的三電極流動(dòng)池下,Cu NDs的起始電位為-0.15 V vs. RHE,可以將C2H2轉(zhuǎn)化為乙烯(C2H4)。其中,在-0.69?V vs. RHE下Cu NDs的最大法拉第效率(FE)約為95.9%,本征活性超過(guò)-450 mA cm?2。
密度泛函理論(DFT)計(jì)算和原位光譜分析表明,Cu NDs具有較強(qiáng)的催化活性,這可能是由于Cu NDs在低配位Cu位點(diǎn)上進(jìn)行乙炔半加氫反應(yīng)時(shí)具有較低的速率決定步驟能壘。此外,作者我們進(jìn)一步展示了從含有0.5%乙炔的模擬原油中連續(xù)生產(chǎn)聚合物級(jí)C2H4的過(guò)程。在50標(biāo)準(zhǔn)立方厘米/分鐘(sccm)的流速下,對(duì)應(yīng)的空速為1.35×105 ml gcat?1 h?1,在自制電極面積為25 cm2的反應(yīng)器可以連續(xù)生成超純C2H4(C2H2 ?<? 1 ppm)至少130 h。
研究背景
乙烯(C2H4)是生產(chǎn)塑料、防凍劑等商用化學(xué)品的主要原料,其中齊格勒-納塔聚合生成的聚乙烯塑料是C2H4最重要的下游產(chǎn)品之一。為大規(guī)模地進(jìn)行該反應(yīng),C2H4流中的C2H2雜質(zhì)必須低于百萬(wàn)分之五(ppm),以滿足聚合物級(jí)C2H4的要求。溶劑吸附法和C2H2熱催化半加氫法是去除乙烯流中C2H2雜質(zhì)的兩種主要方法。溶劑吸收是早期的純化方法,由于高成本的有機(jī)溶劑消耗和C2H4損失,這種方法在環(huán)境上不可持續(xù)。
為保證該轉(zhuǎn)化過(guò)程,需要過(guò)量的氫(H2),從而帶來(lái)安全問(wèn)題,導(dǎo)致過(guò)度加氫。為獲得清潔的C2H4,通常需要進(jìn)行能源密集型的下游分離。電催化乙炔半加氫(EASH)是一種有效的替代方法(C2H2 + 2H2O + 2e?→C2H4 + 2OH?),在環(huán)境條件下由可再生電力提供動(dòng)力。由于乙炔溶解性差,缺乏高效催化劑,EASH一直停滯不前。Cu被認(rèn)為是選擇性生產(chǎn)C2H4時(shí)激活乙炔的主要催化劑之一,但需要過(guò)高的過(guò)電位,導(dǎo)致能源效率較低,并且不能完全去除C2H2雜質(zhì)(<1 ppm)。
圖文解讀
在三電極流動(dòng)池中,以1 M KOH作為電解質(zhì),在流速為30 cm3的純乙炔流下,作者評(píng)估了Cu NDs的乙炔轉(zhuǎn)化為乙烯性能。在EASH過(guò)程中,Cu NDs上的主要產(chǎn)物是C2H4,還有少量C4烯烴和可以忽略不計(jì)的H2。對(duì)于Cu NDs,在-0.45至-0.79 V的寬電位范圍內(nèi),C2H4法拉第效率保持在90%以上。
在-0.69 V下,Cu NDs的電流密度為-350 mA cm?2時(shí),C2H4 FE達(dá)到了95.9%的最大值。當(dāng)電流密度上升到-400 mA cm-2時(shí),HER的FE被抑制到0.1%以下。此外,Cu NDs在EASH條件下表現(xiàn)出優(yōu)異的穩(wěn)定性。對(duì)于Cu MPs,在電流密度為-150 mA cm?2時(shí),C2H4 FE的最大值為85.0%,隨著電流密度的增加,C2H4 FE迅速下降,在-300 mA cm?2時(shí),H2 FE超過(guò)34%。因此,在相同的工作電位下,Cu NDs的催化活性明顯高于Cu MPs。
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圖1. Cu NDs催化劑的結(jié)構(gòu)表征
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圖2. 在純乙炔流下Cu NDs對(duì)乙炔的半加氫性能
通過(guò)DFT計(jì)算,作者闡明了C2H2在Cu NDs上電還原的機(jī)理。兩種類型的表面:代表平坦,無(wú)缺陷表面的Cu(111)表面和具有固有晶體取向或局部缺陷所產(chǎn)生的低配位Cu(211)表面。對(duì)于兩種表面,由于C2H2*在兩種表面上都有較強(qiáng)的吸附,因此潛在限制步驟(PLS)是被吸附的C2H2*還原為C2H3*。
特別是,Cu(111)對(duì)C2H2*表現(xiàn)出明顯強(qiáng)于Cu(211)的穩(wěn)定性,并且驅(qū)動(dòng)上述PLS需要更多的負(fù)電位,即低配位Cu位點(diǎn)比平坦位Cu位點(diǎn)能夠以更低的過(guò)電位催化C2H2電還原。作者比較了將質(zhì)子轉(zhuǎn)移到C2H2*并形成C2H3*的動(dòng)力學(xué)障礙、質(zhì)子轉(zhuǎn)移到表面并形成H*的動(dòng)力學(xué)障礙,形成的H*通過(guò)Heyrovsky途徑或Tafel途徑生成H2
結(jié)果表明,在-0.4 V下,Cu(211)表面形成C2H3*的勢(shì)壘明顯低于Cu(111)表面。從Tafel圖發(fā)現(xiàn),Cu NDs和Cu MPs上的EASH具有相同的速率決定步驟,Cu NDs上的Tafel斜率越小,表明吸附C2H2*到C2H3*的加氫反應(yīng)動(dòng)力學(xué)越快。因此,Cu的低配位位點(diǎn)被確定為選擇性C2H2電還原HER的活性位點(diǎn)。
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圖3. DFT計(jì)算和原位拉曼光譜表征
作者設(shè)計(jì)了一個(gè)MEA型雙電極反應(yīng)器,用于連續(xù)生成聚合物級(jí)C2H4。在流速為10 sccm的雙電極MEA反應(yīng)器(電極面積為4 cm2)中,不同電流下Cu NDs上的EASH產(chǎn)物分布以及相應(yīng)的C2H2轉(zhuǎn)化率。當(dāng)電流為-7.50 mA時(shí),乙炔可以完全還原,C2H4選擇性為92.6%,而HER完全被抑制。
該雙電極MEA反應(yīng)器可在-7.50 mA下穩(wěn)定工作70 h而沒(méi)有明顯的性能衰減,持續(xù)提供超純C2H4,氣體雜質(zhì)可以忽略不計(jì)(小于1 ppm)。此外,放大后的MEA反應(yīng)器可在10-50 sccm的流速下完全將C2H2雜質(zhì)轉(zhuǎn)化為C2H4。當(dāng)流速為20 sccm時(shí),乙烯的選擇性保持在90%以上,當(dāng)流速為50 sccm時(shí),乙烯的選擇性達(dá)到93.6%,對(duì)應(yīng)的空速為1.35×105 ml gcat?1 h?1。同時(shí),其在-50.0 mA下連續(xù)運(yùn)行130 h,性能衰減可以忽略掉。
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圖4. 富含乙烯的模擬氣體中去除乙炔
文獻(xiàn)信息
Electrosynthesis of polymer-grade ethylene via acetylene semihydrogenation over undercoordinated Cu nanodots. Nature Communications, 2023, DOI: 10.1038/s41467-023-37821-1.
https://doi.org/10.1038/s41467-023-37821-1.

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