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上硅所NML: [W-O]摻雜調(diào)控CoP吸附位點,促進高電流密度下肼氧化輔助析氫

上硅所NML: [W-O]摻雜調(diào)控CoP吸附位點,促進高電流密度下肼氧化輔助析氫
利用熱力學(xué)有利的反應(yīng)如肼(N2H4)氧化反應(yīng)(HzOR,N2H4+4OH?→N2+4H2O+4e?,?0.33 VRHE)代替緩慢的陽極析氧反應(yīng)(OER,2OH?→H2O+1/2O2+2e?,1.23 VRHE)輔助水電解可以大大降低制氫電耗。
在肼分解系統(tǒng)(OHzS)中,開發(fā)具有高活性和耐久性的HzOR和HER雙功能電催化劑對于促進肼氧化輔助水分解產(chǎn)氫的實際應(yīng)用至關(guān)重要。然而,肼在陽極的完全電氧化和水在陰極的解離動力學(xué)主要取決于反應(yīng)中間體與催化劑表面的相互作用。因此,設(shè)計具有中等吸附能和ΔGH*的高效、低成本的雙功能催化劑對于實現(xiàn)OHzS綠色制氫的低能耗、高效率具有重要意義。
上硅所NML: [W-O]摻雜調(diào)控CoP吸附位點,促進高電流密度下肼氧化輔助析氫
上硅所NML: [W-O]摻雜調(diào)控CoP吸附位點,促進高電流密度下肼氧化輔助析氫
基于此,中國科學(xué)院上海硅酸鹽研究所施劍林崔香枝等通過原位水解刻蝕的方法,在CoP納米片中引入了具有強吸附能力的鎢橋氧物種[W-O](6W-O-CoP/NF)。引入的[W-O]物種不僅可以作為H2O和N2H4分子的強吸附位點,分別加速H2O的陰極解離和N2H4的陽極完全氧化,而且可以通過[W-O]基團上的橋連O調(diào)控Co位點的d帶中心,進而促進Heyrovsky步驟,從而提高催化性能。
此外,[W-O]的引入同時誘導(dǎo)了CoP納米片的多孔結(jié)構(gòu),從而產(chǎn)生了高暴露的活性位點、良好的親水性和快速的傳質(zhì)動力學(xué)。
上硅所NML: [W-O]摻雜調(diào)控CoP吸附位點,促進高電流密度下肼氧化輔助析氫
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實驗結(jié)果表明,所制備的6W-O-CoP/NF在堿性溶液中進行HER反應(yīng)時,達到1000 mA cm?2電流密度僅需185.6 mV的低過電位;對于HzOR,只需要78.99 mV的電位即可達到1000 mA cm?2的電流密度,Tafel斜率為8.43 mV dec?1,優(yōu)于大多數(shù)報道的非貴金屬或貴金屬催化劑。
此外,以6W-O-CoP/NF為陽極和陰極催化劑組裝的的電解槽,在0.165 V的低電池電壓下,可以提供100 mA cm?2的電流密度,比堿性水電解槽低了1.634 V,大大降低了產(chǎn)氫電耗。并且,這種HER/HzOR電解槽可以由兩個串聯(lián)組裝的DHzFC驅(qū)動,實現(xiàn)在不需要任何外部電源的情況下自供電生產(chǎn)H2(產(chǎn)H2速率高達3.53 mmol cm?2 h?1)。
Adsorption Site Regulations of [W–O]-Doped CoP Boosting the Hydrazine Oxidation-Coupled Hydrogen Evolution at Elevated Current Density. Nano-Micro Letters, 2023. DOI: 10.1007/s40820-023-01185-4

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