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三單位聯(lián)合Angew.:含氧陰離子立大功!加速催化劑表面重構(gòu)以促進(jìn)析氧!

三單位聯(lián)合Angew.:含氧陰離子立大功!加速催化劑表面重構(gòu)以促進(jìn)析氧!
風(fēng)能或太陽(yáng)能等間歇性能源的電化學(xué)轉(zhuǎn)換和儲(chǔ)存被廣泛認(rèn)為是一種高效和清潔的策略,順應(yīng)了碳中和的世界趨勢(shì)。近年來,基于晶格氧氧化機(jī)制(LOM)的鈣鈦礦(ABO3)材料因其良好的理化性質(zhì)和較優(yōu)異的析氧反應(yīng)(OER)性能,被廣泛認(rèn)為是堿性介質(zhì)中極具前景的OER電催化劑。
鈣鈦礦電催化劑的設(shè)計(jì)方法有摻雜工程、界面設(shè)計(jì)和缺陷工程。這些高活性的鈣鈦礦材料會(huì)經(jīng)過一個(gè)表面重構(gòu)的過程,形成一個(gè)非晶氧化物層,這是真正的催化物質(zhì)。因此,深入了解表面重構(gòu)對(duì)于設(shè)計(jì)高性能的LOM基鈣鈦礦電催化劑至關(guān)重要。
近年來,許多學(xué)者致力于揭示LOM基鈣鈦礦電催化劑表面重構(gòu)的內(nèi)在成因和機(jī)理。其中,氧空位形成能被認(rèn)為是決定表面從重構(gòu)過程的主要因素。因此,以往的研究大多集中在通過成分優(yōu)化來調(diào)節(jié)氧空位形成能,以加速表面重構(gòu)過程。
在此背景下,新加坡科技研究局化學(xué)、能源和環(huán)境可持續(xù)性研究所席識(shí)博、新加坡國(guó)立大學(xué)薛軍民、王曉鵬以及四川大學(xué)吳家剛(共同通訊)等人發(fā)現(xiàn),在電解質(zhì)中加入含氧陰離子(SO42-、CO32-、NO3)可以有效調(diào)節(jié)固液界面,顯著加快表面重構(gòu)過程,以增強(qiáng)催化劑的OER活性。
三單位聯(lián)合Angew.:含氧陰離子立大功!加速催化劑表面重構(gòu)以促進(jìn)析氧!
本文通過一系列電化學(xué)測(cè)試,分析了LaNiO3-δ在1 M KOH電解液中浸泡后電化學(xué)性能的變化。在測(cè)試過程中,為了避免Fe雜質(zhì)的影響,本文采用了去鐵電解液。本文利用三電極體系,在1.2~ 1.7 VRHE范圍內(nèi)得到了催化劑LaNiO3-δ在KOH中浸泡不同時(shí)間(0~24 h)后的極化曲線。
測(cè)試結(jié)果表明,隨著浸泡時(shí)間的增加,施加的電位(在10 mA cm-2電流密度下)顯著降低。更具體地說,在KOH電解質(zhì)中浸泡24 h后,催化劑的過電位從416 mV下降到346 mV,比初始時(shí)降低了70 mV。
同時(shí),在KOH電解質(zhì)中浸泡LaNiO3-δ后,隨著浸泡時(shí)間的增加,反向極化的還原峰變得更加明顯(1.3-1.4 VRHE)。在這里,還原峰歸因于極化曲線負(fù)掃描過程中重構(gòu)物質(zhì)從Ni3+還原為Ni2+。此外,還原峰面積隨浸泡時(shí)間的增加而增加,這表明LaNiO3-δ在浸泡過程中產(chǎn)生了更多的電化學(xué)活性位點(diǎn)。
接下來,本文繼續(xù)進(jìn)行了電化學(xué)測(cè)試以研究含氧陰離子引入到1 M KOH電解質(zhì)后對(duì)催化劑OER性能的影響。本文依舊利用三電極體系,在1.2~1.7 VRHE范圍內(nèi)得到了催化劑的極化曲線。測(cè)試后發(fā)現(xiàn),浸泡在加入0.1 M SO42-的電解液中的催化劑,過電位最低,僅為309 mV(加入0.1 M CO32-為321 mV,加入0.1 M NO3為328 mV)。
此外,在0.1 M SO42-中,催化劑在1.6 VRHE時(shí)的電流密度從4.9 mA cm-2顯著增加到44.9 mA cm-2,過電位(在10 mA cm-2電流密度下)降低,這表明在電解質(zhì)中加入含氧陰離子顯著改善了催化劑的OER活性,實(shí)驗(yàn)結(jié)果也證實(shí)了SO42-的表面重構(gòu)速度更快。
三單位聯(lián)合Angew.:含氧陰離子立大功!加速催化劑表面重構(gòu)以促進(jìn)析氧!
一般情況下,在KOH環(huán)境中,LaNiO3-δ表面被大量?jī)?nèi)亥姆霍茲平面(IHP)和外亥姆霍茲平面(OHP)層上的OH離子和H2O分子包圍。在表面重構(gòu)過程中,周圍OH離子與OH離子釋放之間存在動(dòng)態(tài)平衡。在1 M KOH中,周圍的OH離子會(huì)阻礙OH離子的釋放。
當(dāng)在電解質(zhì)中加入陰離子(SO42-、CO32-、NO3等)時(shí),這些陰離子更容易發(fā)生特異性吸附,更容易在IHP層吸附。電極界面發(fā)生的特異性吸附會(huì)極大地影響OH在IHP層內(nèi)的分布,將會(huì)剝離周圍的OH離子。這打破了周圍OH離子與OH離子釋放之間的動(dòng)態(tài)平衡,會(huì)釋放更多的OH離子。
因此,含氧陰離子的加入可以降低IHP層中OH離子的濃度,促進(jìn)表面重構(gòu)過程。本文的Zeta電勢(shì)結(jié)果也證明了這一點(diǎn)??傊疚牡难芯拷Y(jié)果加深了對(duì)催化劑表面重構(gòu)過程的認(rèn)識(shí)。
三單位聯(lián)合Angew.:含氧陰離子立大功!加速催化劑表面重構(gòu)以促進(jìn)析氧!
Accelerated Surface Reconstruction through Regulating the Solid-Liquid Interface by Oxyanions in Perovskite Electrocatalysts for Enhanced Oxygen Evolution, Angewandte Chemie International Edition, 2023, DOI: 10.1002/anie.202309107.
https://doi.org/10.1002/anie.202309107.

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